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抛光机使产物表面更良好同时也要使抛光损伤层不会影响终观察到的组织，抛光机即不会造成假组织。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不外也应当尽可能小；其次是精抛或称终抛，其目的是去抛光机除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到小。抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成。解决这个矛盾的好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。

电念头固定在底座上，固定抛光盘用的锥套通过螺钉与电念头轴相连。抛光机操纵的枢纽是要想法得到大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。抛光织物通过套圈紧固在抛光盘上，电念头通过底座上的开关接通电源起动后，便可用手对试样施加压力在滚动的抛光盘长进行抛光。抛光过程中加入的抛光液可通过固定在底座上的塑料盘中的排水管流入置于抛光机旁的方盘内